Obiettivi sputtering di titaniosono i materiali chiave nella tecnologia di deposizione fisica in fase di vapore (PVD), in particolare nel processo di rivestimento sputtering. Sono realizzati con materie prime di titanio e sono ampiamente utilizzati nei settori high-tech come l'elettronica, l'informatica, i settori decorativi e la produzione di vetro per automobili. In queste applicazioni, i target in titanio vengono applicati specificamente nel rivestimento di circuiti integrati, nel rivestimento superficiale di pannelli di visualizzazione a schermo piatto o come strati di rivestimento per vetri decorativi e funzionali.
I requisiti prestazionali principali degli obiettivi di sputtering in titanio
Le prestazioni dei materiali target in titanio determinano direttamente la qualità dei film depositati e le prestazioni dei dispositivi finali.
Purezza: La purezza è uno degli indicatori di prestazione più critici del materiale target e influisce in modo significativo sulle prestazioni delle pellicole. I requisiti di purezza variano notevolmente a seconda delle diverse applicazioni. La tendenza nella produzione di chip è che i wafer di silicio stanno diventando sempre più grandi e le linee dei circuiti sempre più sottili. La dimensione dei wafer di silicio è stata aggiornata a 12 pollici e la larghezza del cablaggio è gradualmente diminuita a 0,25 μm, 0,18 μm e 0,13 μm. Pertanto, i requisiti di purezza per il materiale centrale, il materiale target in titanio, sono diventati sempre più severi. Per il processo da 0,35 μm è necessario un materiale target con una purezza del 99,995%, mentre per il processo da 0,18 μm è necessario un materiale target con una purezza del 99,999% o addirittura una purezza ultraelevata.
Contenuto di impurità: Le impurità presenti nel solido del materiale target e l'ossigeno e il vapore acqueo adsorbiti nei pori interni sono le principali fonti di contaminazione dei film depositati. Diverse applicazioni hanno limiti estremamente rigidi sul contenuto di impurità specifiche. Ad esempio, l'alluminio puro e le leghe di alluminio utilizzate nell'industria dei semiconduttori hanno requisiti speciali estremamente severi per quanto riguarda il contenuto di metalli alcalini e il contenuto di elementi radioattivi.
Densità: L'alta densità è fondamentale per ridurre i pori interni nel materiale target e migliorare le prestazioni delle pellicole spruzzate. La densità del materiale target non influisce solo sulla velocità di sputtering, ma influenza anche in modo significativo le proprietà elettriche (come la resistività) e le proprietà ottiche delle pellicole. In generale, maggiore è la densità, migliore è la resa della pellicola. Allo stesso tempo, l'alta densità e l'elevata resistenza possono anche consentire al materiale target di resistere meglio allo stress termico durante il processo di sputtering, riducendo il rischio di fessurazioni. Pertanto, la densità è un indicatore chiave delle prestazioni per misurare la qualità del materiale target.
La dimensione e la distribuzione dei grani: La dimensione dei grani del materiale target varia da micrometri a millimetri. L'efficienza dello sputtering dei target-a grana fine è superiore a quella dei target-a grana grossa. I materiali target con granulometria uniforme hanno maggiori probabilità di produrre pellicole depositate di spessore uniforme, il che rappresenta una garanzia di prestazioni chiave per i processi di rivestimento di display a schermo piatto di-area ampia.
Applicazioni dei materiali target in titanio
Industria dei semiconduttori: i materiali target in titanio possono essere utilizzati per produrre componenti elettronici, come fotodiodi, fototransistor, fotoricevitori e trasmettitori, ecc.
Campo optoelettronico: i materiali target in titanio possono essere utilizzati per produrre dispositivi optoelettronici, come LED e celle solari, ecc.
Campo dei materiali magnetici: i materiali target in titanio possono essere utilizzati per produrre dischi rigidi e carte magnetiche, ecc.
Altri campi ad alta-tecnologia: i materiali bersaglio in titanio sono ampiamente utilizzati anche nelle leghe ad alta-temperatura, nei materiali conduttivi, nei catalizzatori chimici e nelle apparecchiature mediche, ecc.
Questi campi non solo richiedono materiali con elevata robustezza e resistenza alla corrosione, ma anche proprietà chimiche stabili e biocompatibilità. I materiali target in titanio soddisfano esattamente questi requisiti e sono diventati un materiale importante in questi campi.
Baoji Yibaite New Materials Technology Co., Ltd- fornitore di materiali target in titanio a Baoji, Cina